Réacteur plasma à basse pression radiofréquence pour implantation ionique – PBII300
Laboratoire
Laboratoire de Biomatériaux et Bioingénierie
Département
Département de génie des mines, de la métallurgie et des matériaux
Organisme(s) subventionnaire(s) :
iBiomat
Fournisseur (modèle)
Plasmionique
Mise en fonction
2014
Description de l’équipement
Ce réacteur plasma à basse pression utilise un mélange gazeux ajustable en fonction des modifications de surface désirées.
Il est principalement utilisé dans le laboratoire pour modifier la surface de métaux par implantation ionique.
Caractéristiques spécifiques
- Gamme de pression : 5 mTorr
- Gaz possibles : azote, oxygène
- Surface traitée : variable
- Tension de travail : 0 – 10 kV
- Fréquence de travail : 13,6 MHz
- Mode : continu ou pulsé
Champs d’expertise de l’appareil
- Modification de surface
- Traitement par plasma à basse pression
Conditions d’utilisations
Nécessité d’une formation sur l’appareil ou de l’utilisation de l’appareil par un professionnel de recherche. Disponible pour collaborateurs académiques et/ou industriel.
Coût de location (CAD)
Campus
À discuter avec la responsable
Hors campus académique
À discuter avec la responsable
Industries
À discuter avec la responsable
Réservation
Pascale Chevalier Ph. D.
pascale.chevallier@crchudequebec.ulaval.ca
418-525-4444 poste 52381