Réacteur plasma à basse pression CFx – RF ICP Plume Series
Laboratoire
Laboratoire de Biomatériaux et Bioingénierie
Département
Département de génie des mines, de la métallurgie et des matériaux
Organisme(s) subventionnaire(s) :
iBiomat
Fournisseur (modèle)
Plasmionique
Mise en fonction
2017
Description de l’équipement
Ce réacteur plasma à couplage inductif utilise un mélange gazeux ajustable en fonction des modifications de surface désirées pour traiter des substrats à distance du plasma.
Il est principalement utilisé dans le laboratoire pour déposer des fluorocarbones à la surface de métaux.
Caractéristiques spécifiques
- Type de réacteur : ICP, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
- Gamme de pression : 5 mTorr – 5 Torr
- Gaz possibles : azote, oxygène, argon, hydrogène, fluorocarbone (C2F6)
- Surface traitée : variable
- Tension de travail : potentiel flottant
- Fréquence de travail : 13,56 MHz
- Mode : continu ou pulsé
Champs d’expertise de l’appareil
- Modification de surface
- Traitement par plasma à basse pression
Conditions d’utilisations
Nécessité d’une formation sur l’appareil ou de l’utilisation de l’appareil par un professionnel de recherche. Disponible pour collaborateurs académiques et/ou industriel.
Coût de location (CAD)
Campus
À discuter avec la responsable
Hors campus académique
À discuter avec la responsable
Industries
À discuter avec la responsable
Réservation
Pascale Chevalier Ph. D.
pascale.chevallier@crchudequebec.ulaval.ca
418-525-4444 poste 52381